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傾斜面投影之全面對焦(All on
focus)
一般演算法做近場設計，可以讓投射影像聚焦，但其聚焦面需平行於 DOE 平面。
本公司的演算法可以讓投射影像在任意角度的傾斜面上聚焦，對斜向投射的應用而言，可以獲得最清晰完整的投射圖案。
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任意曲面完全聚焦(All on
focus)
一般演算法近場設計之聚焦面均為平面。
本公司的演算法不只可以在傾斜平面上全面聚焦，更可以在任意曲面上的每一點都完全聚焦，可在弧面上投射出最清晰完整的影像，也可在空中投影 3D 影像
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投影Keystone自動修正
斜向投影會產生 Keystone 像差，一般DOE演算法無法修正，需人工做預像植像差（Pre-distortion）補償。
本公司的演算法可以自動進行斜向投影的 keystone 修正，避免人工預植像差可能造成的誤差。
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繞射像差(Diffraction
distortion)自動修正
繞射點的位置有自然的非線性像差，角度越大像差越大。
本公司演算法可自動修正圖形的繞射像差，不管設計任何圖案，都不會因繞射像差產生變形。
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兼具近場與遠場之設計
一般演算法可做近場設計也可做遠場設計,但無法同時存在於同一片 DOE 中。
本公司的演算法則可突破此限制，可在一片 DOE 中同時設計投射出遠場和近場圖案。
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不同深度多平面設計
一般演算法，不管是近場設計或遠場設計, 通常只有一個與DOE面平行的平面。
本公司的演算法則可在一片 DOE 中同時投射出多個具有不同深度的平面圖案，而且平面不限制需平行於DOE面，每一個平面都可具有任意角度。
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雷射光束傾斜入射DOE
一般雷射光束通常是垂直入射 DOE，本公司設計不受此限制，雷射光束可設計成從任何傾斜角度入射 DOE，提供使用 DOE 之光機系統設計更大的彈性。
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非固定Cell size
一般 DOE 設計演算法之 cell size 是固定的，整個 DOE 都必須一致。本公司演算法也可以突破此限制，在 XY 兩方向的 cell size 都可以是非固定的。
這特別的技術可以降低因週期性結構產生的週期性雜訊，提高DOE的投影品質。
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